Вольфрам Целевая

Вольфрам мишени используются в основном в физических осаждения из паровой фазы (PVD) методы, такие как напыление, для нанесения тонких пленок на различных поверхностях. При распылении, ионизированные атомы газа ускоряются к цели вольфрама, вызывая эмиссию атомов с поверхности мишени. Эти атомы затем осаждаются на подложку, образуя тонкую пленку.

Вольфрам цели характеризуются высокой температурой плавления и исключительной устойчивостью к тепловым ударам, что делает их пригодными для применения с высокой мощностью распыления. Разбрызгивание с вольфрамовой мишенью обычно используется для производства твердых и износостойких пленок, таких как те, которые используются в производстве режущих инструментов и износостойких поверхностей.

В дополнение к этому, вольфрамовые мишени используются в производстве полупроводниковых материалов. Вольфрам является отличным проводником тепла и электричества, что делает его идеальным для использования в микроэлектронной промышленности. Высокая чистота и качество вольфрамовых мишеней имеют важное значение для достижения высококачественных и однородных тонкопленочных покрытий с конкретными функциональными возможностями.

В целом, эффективная работа методов PVD сильно зависит от качества и чистоты вольфрамового материала мишени и применяемых параметров обработки.

Вольфрамовые мишени обычно используются в методах обработки материалов на основе плазмы, таких как распыление и ионная имплантация, благодаря их превосходным тепловым и механическим свойствам. Однако высокая поверхностная энергия вольфрамовых мишеней может привести к проблемам с адгезией и накоплением материала.

Чтобы смягчить эти проблемы, различные методы модификации поверхности могут быть использованы для изменения свойств поверхности вольфрамовых мишеней. Например, поверхность вольфрамовых мишеней можно обрабатывать химическими или физическими методами для улучшения смачиваемости поверхности, уменьшения адгезии и предотвращения накопления материала.

Одним из таких методов является нанесение покрытия с низкой поверхностной энергией на поверхность мишени из вольфрама. Это может быть достигнуто с помощью различных способов, таких как плазмоусиленное химическое осаждение из паровой фазы (PECVD) или физическое осаждение из паровой фазы (PVD). Покрытие с низкой поверхностной энергией снижает поверхностную энергию вольфрамовых мишеней и тем самым помогает уменьшить адгезию материалов при плазменной обработке.

Другой метод-текстурирование поверхности вольфрамовой мишени с помощью таких методов, как лазерная абляция или дробеметрихование. Текстурирование создает шероховатую поверхность, которая повышает смачиваемость поверхности за счет уменьшения площади контакта между целевой поверхностью и материалами, тем самым сводя к минимуму адгезию материала.

В целом, методы модификации поверхности предлагают многообещающий способ повышения производительности и срока службы вольфрамовых мишеней, которые очень важны в методах обработки материалов на основе плазмы.